サイトトップへこのカテゴリの一覧へ

K 6241:2012  

(1) 

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き,本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。 

目 次 

ページ 

序文 ··································································································································· 1 

1 適用範囲························································································································· 1 

2 引用規格························································································································· 1 

3 原理······························································································································· 2 

4 加熱脱着GC/MS法 ·········································································································· 2 

4.1 キャリヤーガス ············································································································· 2 

4.2 装置及び器具 ················································································································ 2 

4.3 試験室試料の採取 ·········································································································· 3 

4.4 手順 ···························································································································· 3 

5 溶剤抽出GC/MS法 ·········································································································· 4 

5.1 試薬 ···························································································································· 4 

5.2 装置及び器具 ················································································································ 4 

5.3 試験室試料の採取 ·········································································································· 4 

5.4 手順 ···························································································································· 4 

6 解析······························································································································· 4 

6.1 解析の手順 ··················································································································· 5 

6.2 解析の注意点 ················································································································ 5 

7 結果の報告 ······················································································································ 5 

附属書A(規定)この規格が規定する老化防止剤 ······································································· 6 

附属書B(参考)クロマトグラム及び質量スペクトル ·································································· 9 

附属書C(規定)GC保持指標の求め方 ··················································································· 41 

附属書JA(参考)JISと対応国際規格との対比表 ······································································ 43 

K 6241:2012  

(2) 

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き,本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。 

まえがき 

この規格は,工業標準化法第12条第1項の規定に基づき,日本ゴム工業会(JRMA)及び一般財団法人

日本規格協会(JSA)から,工業標準原案を具して日本工業規格を制定すべきとの申出があり,日本工業

標準調査会の審議を経て,経済産業大臣が制定した日本工業規格である。 

この規格は,著作権法で保護対象となっている著作物である。 

この規格の一部が,特許権,出願公開後の特許出願又は実用新案権に抵触する可能性があることに注意

を喚起する。経済産業大臣及び日本工業標準調査会は,このような特許権,出願公開後の特許出願及び実

用新案権に関わる確認について,責任はもたない。 

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き,本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。 

日本工業規格          JIS 

K 6241:2012 

ゴム−ガスクロマトグラフィー質量分析法 

(GC/MS法)による老化防止剤の同定 

Rubber-Identification of antidegradants by  

gas chromatography/mass spectrometry 

序文 

この規格は,2010年に第1版として発行されたISO 10638を基に,技術的内容を変更して作成した日本

工業規格である。 

なお,この規格で側線又は点線の下線を施してある箇所は,対応国際規格を変更している事項である。

変更の一覧表にその説明を付けて,附属書JAに示す。 

適用範囲 

この規格は,ゴム及びラテックスの配合剤として用いる老化防止剤をガスクロマトグラフィー質量分析

法(GC/MS法)を用いて同定する方法について規定する。 

この規格は,ゴムとして,原料ゴム,未加硫配合ゴム及び加硫配合ゴムに適用できる。 

なお,この規格を適用する老化防止剤は,附属書Aに示す31種類とする。 

警告 この規格に基づいて試験を行う者は,通常の実験室での作業に精通していることを前提とする。

この規格は,この使用に関連して起こる全ての安全上の問題を取り扱おうとするものではない。

この規格の利用者は,各自の責任において安全及び健康に対する適切な措置をとらなければな

らない。 

注記 この規格の対応国際規格及びその対応の程度を表す記号を,次に示す。 

ISO 10638:2010,Rubber−Identification of antidegradants by gas chromatography/mass spectrometry

(MOD) 

なお,対応の程度を表す記号“MOD”は,ISO/IEC Guide 21-1に基づき,“修正している”

ことを示す。 

引用規格 

次に掲げる規格は,この規格に引用されることによって,この規格の規定の一部を構成する。これらの

引用規格は,その最新版(追補を含む。)を適用する。 

JIS K 0114 ガスクロマトグラフィー通則 

JIS K 0123 ガスクロマトグラフィー質量分析通則 

JIS K 0214 分析化学用語(クロマトグラフィー部門) 

JIS K 6229 ゴム−溶剤抽出物の求め方(定量) 

注記 対応国際規格:ISO 1407,Rubber−Determination of solvent extract(MOD) 

background image

K 6241:2012  

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き,本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。 

JIS K 6298 原料ゴム−天然ゴム・合成ゴム−サンプリング及びその後の準備手順 

注記 対応国際規格:ISO 1795,Rubber, raw natural and raw synthetic−Sampling and further preparative 

procedures(IDT) 

JIS K 6387-1 ゴムラテックス−第1部:サンプリング 

注記 対応国際規格:ISO 123,Rubber latex−Sampling(IDT) 

JIS K 6387-2 ゴムラテックス−第2部:全固形分の求め方 

注記 対応国際規格:ISO 124,Latex, rubber−Determination of total solids content(MOD) 

JIS K 8034 アセトン(試薬) 

JIS K 8464 シクロヘキサン(試薬) 

原理 

試験片から回収した老化防止剤を,GC/MS法によって同定する。老化防止剤の回収方法として,加熱脱

着法及び溶剤抽出法がある。加熱脱着GC/MS法は,試験片を加熱して発生する気化成分を加熱脱着装置

と直結したGC/MS装置を用いて分離し解析する。溶剤抽出GC/MS法は,試験片を溶剤抽出して得られた

抽出分をGC/MS装置を用いて分離し解析する。 

同定は,質量スペクトルを解析して行う。同定精度をより高める必要がある場合には,GC保持指標(附

属書C)を用いた解析を併用すると有用である。 

加熱脱着GC/MS法 

加熱脱着GC/MS法に用いるキャリヤーガス,装置・器具,試験室試料の採取及び手順は,次による。 

4.1 

キャリヤーガス ヘリウムガスを用いる。 

4.2 

装置及び器具 加熱脱着GC/MS装置は,加熱脱着装置,ガスクロマトグラフ,質量分析計及びデー

タ処理装置からなる。その概略を図1に示す。 

図1−加熱脱着GC/MS装置の概略図 

4.2.1 

加熱脱着装置 ガスクロマトグラフと直結したもので,350 ℃に加熱可能な装置を用いる。 

加熱温度を350 ℃に設定した熱分解装置を,加熱脱着装置の代わりに用いてもよい。 

4.2.2 

ガスクロマトグラフ JIS K 0114によるほか,次の条件に設定できるものを用いる。 

a) キャリヤーガス流量:1.0〜2.0 mL/分 

b) 注入口温度:300〜350 ℃ 

background image

K 6241:2012  

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き,本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。 

c) カラム槽最終温度:350 ℃ 

4.2.3 

カラム 次の条件を満足するものを用いる。 

ただし,附属書A及び附属書Cに示すGC保持指標を利用しない場合は,他の種類のカラム(例えば,

固定相液体が100 %ジメチルポリシロキサン)も用いることができる。 

a) 長さ:25〜60 m 

b) 内径:0.25〜0.35 mm 

c) 固定相液体:5 %ジフェニル-95 %ジメチルポリシロキサン 

d) 膜厚:0.20〜0.35 μm 

4.2.4 

質量分析計 JIS K 0123に規定するもので,次の条件に設定できるものを用いる。 

a) インターフェース温度:300 ℃ 

b) イオン化法:電子イオン化(EI)法 

c) イオン源温度:230〜300 ℃ 

d) 加速電圧:70 eV 

e) 質量電荷比(m/z)走査範囲:50〜600 

4.2.5 

質量分析計の装置校正 質量電荷比(m/z)の目盛校正は,装置の取扱説明書に従って,一時停止

後の始動時など必要な場合に行う。 

4.3 

試験室試料の採取 

4.3.1 

ラテックス JIS K 6387-1に従って採取し,JIS K 6387-2に従って乾燥固化する。 

4.3.2 

原料ゴム JIS K 6298に従って採取する。 

4.3.3 

未加硫配合ゴム及び加硫配合ゴム 未加硫配合ゴム及び加硫配合ゴムは,測定しようとする試料組

成を代表する部分(例えば中央部)から採取する。表面の汚れは,取り除く。 

4.4 

手順 

4.4.1 

加熱脱着装置及びGC/MS装置を,次の条件の範囲内で設定する。 

なお,カラムは,4.2.3のものを用いる。 

a) 加熱脱着装置 

− 加熱脱着温度:350 ℃ 

b) ガスクロマトグラフ 

− キャリヤーガス流量:1.0〜2.0 mL/分 

− 注入口温度:300〜350 ℃ 

− カラム槽温度プログラム 

− 初期温度40〜80 ℃ 

− 昇温速度10〜25 ℃/分 

− 最終温度320〜350 ℃ 

− 保持時間10〜30分 

カラム槽最終温度は,カラムの最高使用温度以下に設定する。 

c) 質量分析計 

− インターフェース温度:300 ℃ 

− イオン化法:電子イオン化(EI)法 

− イオン源温度:230〜300 ℃ 

− 加速電圧:70 eV 

background image

K 6241:2012  

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き,本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。 

− 質量電荷比(m/z)走査範囲:50〜600 

4.4.2 

試験室試料から0.2〜2 mgの試験片をはかりとり,試料ホルダに入れる。 

4.4.3 

試験片を入れた試料ホルダを加熱脱着装置に導入し,GC/MS装置による測定を開始する。 

4.4.4 

クロマトグラム及び質量スペクトルを得る。同定の精度を高める必要がある場合には,GC保持指

標を附属書Cによって求める。 

溶剤抽出GC/MS法 

溶剤抽出GC/MS法における試薬,装置・器具,試験室試料の採取及び手順は,次による。 

5.1 

試薬 

5.1.1 

抽出溶剤 JIS K 8034に規定するアセトンを用いる。 

5.1.2 

キャリヤーガス ヘリウムガスを用いる。 

5.2 

装置及び器具 

5.2.1 

ソックスレー抽出装置 JIS K 6229に規定する抽出装置及び器具を用いる。 

5.2.2 

GC/MS装置 4.2.2〜4.2.4による。その概略を図2に示す。 

図2−GC/MS装置の概略図 

5.2.3 

質量分析計の装置校正 4.2.5による。 

5.3 

試験室試料の採取 4.3による。 

5.4 

手順 

5.4.1 

GC/MS装置を,4.4.1のa)〜c) の条件に設定する。 

5.4.2 

試験室試料から約2 gの試験片を採取し,一辺が2 mm以下になるように細かく切り,JIS K 6229

のA法に従って約8時間アセトンで抽出する。 

5.4.3 

抽出液を10〜20 mLに濃縮し,1 μLをGC/MS装置に注入して測定を開始する。 

原料ゴム又は未加硫配合ゴムがアセトンに溶解する場合は,溶剤抽出法の代わりに加熱脱着法を行う。 

5.4.4 

クロマトグラム及び質量スペクトルを得る。同定精度をより高める必要がある場合には,GC保持

指標を附属書Cによって求める。 

解析 

附属書Aに示すGCで検出された化合物,質量スペクトルに特有な質量電荷比(m/z)及びGC保持指標,

並びに附属書Bに示すクロマトグラム,特徴的なピークの帰属及び質量スペクトルを用いて,次の手順で

K 6241:2012  

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き,本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。 

解析を行う。 

6.1 

解析の手順 

6.1.1 

4.4又は5.4の手順によって得られたクロマトグラムの各ピークの質量スペクトルを表示する。GC

保持指標を求めた場合は,表A.1を参考に予想される保持時間に応じたピークの質量スペクトルを表示す

る。 

6.1.2 

得られた質量スペクトルと図B.1〜図B.31の質量スペクトルとを比較し,類似度が高い質量スペク

トルを検索する。市販の質量スペクトル検索システムを利用することもできる。 

6.1.3 

6.1.2で質量スペクトルの類似度が高い化合物を選定し,表A.1によって老化防止剤を同定する。 

6.1.4 

GC保持指標を求めた場合は,質量スペクトルから同定した老化防止剤のGC保持指標と表A.1の

GC保持指標とが一致することを確認する。 

6.2 

解析の注意点 

6.2.1 

老化防止剤の同定においては,得られた質量スペクトルの主な質量電荷比(m/z),それらの相対強

度比などを含めたスペクトル全体を確認しなければならない。質量スペクトル及びGC保持指標の両方で

確認した場合は,同定精度がより向上する。 

6.2.2 

老化防止剤は,数種類配合されることを十分考慮して,同定しなければならない。 

6.2.3 

老化防止剤には,単一成分でないものがある。その場合,クロマトグラムには,複数のピークが検

出されるが,その組成比は,老化防止剤の製造元又は銘柄によって異なるため,ピーク面積又は高さの比

も異なる。 

6.2.4 

老化防止剤には,分解物しか検出されないものもある。その場合は,それぞれの老化防止剤に由来

する化合物の質量スペクトルで同定しなければならない。 

結果の報告 

試験報告書には,次の事項を記載する。 

a) この規格の番号(JIS K 6241) 

b) 試料の詳細 

c) 試験条件 

− 老化防止剤の回収方法(加熱脱着法又は溶剤抽出法) 

− 装置の設定条件 

d) 測定結果(検出された老化防止剤の種類) 

e) 試験年月日 

background image

K 6241:2012  

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き,本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。 

附属書A 

(規定) 

この規格が規定する老化防止剤 

この規格が取り扱う老化防止剤は,表A.1に示す31種類とする。表A.1には,各老化防止剤の名称,略

語,CAS登録番号,GCで検出される化合物,質量スペクトルに特有な質量電荷比(m/z)及びGC保持指

標を示す。 

表A.1−この規格が規定する老化防止剤 

番号 

名称a) 

略語a) 

CAS 

登録番号 

ピーク 

番号b) 

GCで検出される化合物 

特有な 

質量電荷比 

(m/z) 

GC 

保持
指標 

B1 

2,2,4-トリメチル-1,2-ジヒ
ドロキノリンの重合物 

TMQ 

26780-96-1 B1-1 

2,2,4-トリメチル-1,2-ジヒ
ドロキノリン 

158 

173 

1 470 

B1-2 

2量体 

158 

331 

2 720 

B1-3 

3量体 

174 

519 

3 820 

B2 

6-エトキシ-1,2-ジヒドロ
-2,2,4-トリメチルキノリン 

ETMQ 

91-53-2 

B2-1 

6-エトキシ-1,2-ジヒドロ
-2,2,4-トリメチルキノリン 

202 

217 

1 760 

B3 

アセトンとジフェニルア
ミンの縮合物 

ADPA 

68412-48-6 B3-1 

ジフェニルアミン 

169 

1 640 

B3-2 

イソプロピルジフェニル
アミン 

196 

211 

1 910 

B3-3 

9,9'-ジメチルアクリダン 

194 

209 

1 960 

B3-4 

構造不明 

236 

251 

2 180 

B4 

ジフェニルアミン,アニリ
ン,アセトンの反応物 

− 

− 

B4-1 

ジフェニルアミン 

169 

1 640 

B4-2 

9,9'-ジメチルアクリダン 

194 

209 

1 960 

B4-3 

構造不明 

331 

348 

2 720 

B4-4 

構造不明 

363 

378 

3 740 

B5 

N-フェニル-α-ナフチルア

ミン 

PAN 

90-30-2 

B5-1 

N-フェニル-α-ナフチルア

ミン 

219 

2 200 

B6 

アルキル化ジフェニルア
ミン 

− 

− 

B6-1 

ジフェニルアミン 

169 

1 640 

B6-2 

4,4'-ジブチルジフェニル
アミン 

210 

281 

2 330 

B6-3 

4,4'-ジオクチルジフェニ
ルアミン 

322 

393 

3 000 

B7 

オクチル化ジフェニルア
ミン 

ODPA 

101-67-7 

B7-1 

4,4'-ジオクチルジフェニ
ルアミン 

322 

393 

3 000 

B8 

4,4'-ビス(α,α-ジメチルベ
ンジル)ジフェニルアミン 

DCD 

10081-67-1 B8-1 

4,4'-ビス(α,α-ジメチルベ
ンジル)ジフェニルアミン 

390 

405 

3 660 

B9 

p-(p-トルエンスルホニル

アミド)ジフェニルアミン 

− 

100-93-6 

B9-1 

N-フェニル-p-フェニレン

ジアミン 

184 

1 990 

B9-2 

p-(p-トルエンスルホニル

アミド)ジフェニルアミン 

183 

338 

3 340 

B10 N,N'-ジ-2-ナフチル-p-フェ

ニレンジアミン 

DNPD 

93-46-9 

B10-1 

N,N'-ジ-2-ナフチル-p-フェ

ニレンジアミン 

360 

4 120 

B11 N,N'-ジフェニル-p-フェニ

レンジアミン 

DPPD 

74-31-7 

B11-1 

N,N'-ジフェニル-p-フェニ

レンジアミン 

260 

2 740 

background image

K 6241:2012  

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き,本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。 

表A.1−この規格が規定する老化防止剤(続き) 

番号 

名称a) 

略語a) 

CAS 

登録番号 

ピーク 

番号b) 

GCで検出される化合物 

特有な 

質量電荷比 

(m/z) 

GC 

保持
指標 

B12 N-イソプロピル-N'-フェニ

ル-p-フェニレンジアミン 

IPPD 

101-72-4 

B12-1 

N-イソプロピル-N'-フェニ

ル-p-フェニレンジアミン 

211 

226 

2 150 

B13 N-1,3-ジメチルブチル-N'-

フェニル-p-フェニレンジ
アミン 

6PPD 

793-24-8 

B13-1 

N-1,3-ジメチルブチル-N'-

フェニル-p-フェニレンジ
アミン 

211 

268 

2 390 

B14 N-(1-メチルへプチル)-N'-

フェニル-p-フェニレンジ
アミン 

− 

15233-47-3 B14-1 

N-(1-メチルへプチル)-N'-

フェニル-p-フェニレンジ
アミン 

211 

296 

2 660 

B15 ジアリール-p-フェニレン

ジアミン混合物 

− 

68953-84-4 B15-1 

N,N'-ジフェニル-p-フェニ

レンジアミン 

260 

2 730 

B15-2 

N,N'-ジメチルフェニル-p-

フェニレンジアミン 

288 

2 810 

B15-3 

N,N'-ジメチルフェニル-p-

フェニレンジアミン(異性
体) 

288 

2 880 

B16 2,6-ジ-tert-ブチル-4-メチ

ルフェノール 

BHT 

128-37-0 

B16-1 

2,6-ジ-tert-ブチル-4-メチ
ルフェノール 

205 

220 

1 530 

B17 2,6-ジ-tert-ブチル-4-エチ

ルフェノール 

− 

4130-42-1 

B17-1 

2,6-ジ-tert-ブチル-4-エチ
ルフェノール 

219 

234 

2 660 

B18 スチレン化フェノール 

SPH 

61788-44-1 B18-1 

α-メチルベンジルフェノ

ール 

183 

198 

1 740 

B18-2 

ジ-α-メチルベンジルフェ
ノール 

287 

302 

2 530 

B18-3 

トリ-α-メチルベンジルフ
ェノール 

391 

406 

3 080 

B19 プロピオン酸n-オクタデ

シル-3-(4-ヒドロキシ
-3',5'-ジ-tert-ブチルフェニ
ル) 

− 

2082-79-3 

B19-1 

プロピオン酸n-オクタデ
シル-3-(4-ヒドロキシ
-3',5'-ジ-tert-ブチルフェニ
ル) 

515 

530 

3 630 

B20 アクリル酸2-tert-ブチル

-6-(3-tert-ブチル-2-ヒドロ
キシ-5-メチルベンジル)
-4-メチルフェニル 

− 

61167-58-6 B20-1 

アクリル酸2-tert-ブチル
-6-(3-tert-ブチル-2-ヒドロ
キシ-5-メチルベンジル)-4-
メチルフェニル 

361 

394 

2 610 

B21 2,2'-メチレンビス(4-エチ

ル-6-tert-ブチルフェノー
ル) 

MBETB 

88-24-4 

B21-1 

2,2'-メチレンビス(4-エチ
ル-6-tert-ブチルフェノー
ル) 

191 

368 

2 550 

B22 2,2'-メチレンビス(4-メチ

ル-6-tert-ブチルフェノー
ル) 

MBMTB 

119-47-1 

B22-2 

2,2'-メチレンビス(4-メチ
ル-6-tert-ブチルフェノー
ル) 

177 

340 

2 460 

B23 4,4'-ブチリデンビス(3-メ

チル-6-tert-ブチルフェノ
ール) 

BBMTBP 85-60-9 

B23-1 

4,4'-ブチリデンビス(3-メ
チル-6-tert-ブチルフェノ
ール) 

339 

382 

2 740 

B24 4,4'-チオビス(3-メチル

-6-tert-ブチルフェノール) 

TBMTBP 96-69-5 

B24-1 

4,4'-チオビス(3-メチル
-6-tert-ブチルフェノール) 

343 

358 

2 820 

background image

K 6241:2012  

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き,本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。 

表A.1−この規格が規定する老化防止剤(続き) 

番号 

名称a) 

略語a) 

CAS 

登録番号 

ピーク 

番号b) 

GCで検出される化合物 

特有な 

質量電荷比 

(m/z) 

GC 

保持
指標 

B25 p-クレゾールとジシクロ

ペンタジエンのブチル化
反応物 

− 

68610-51-5 B25-1 

2,2'-シクロペンタジエン-
ビス(4-メチル-6-tert-ブチ
ルフェノール) 

445 

460 

3750 

B26 2,2'-メチレン-ビス[3-メチ

ル-6-(1-メチルシクロヘキ
シル)フェノール] 

o-MBp1 
(1C) 

77-62-3 

B26-1 

2,2'-メチレン-ビス[3-メチ
ル-6-(1-メチルシクロヘキ
シル)フェノール] 

217 

420 

3330 

B27 2,5-ジ-tert-ブチルヒドロキ

ノン 

DBHQ 

88-58-4 

B27-1 

構造不明 

205 

220 

1480 

B27-2 

2,5-ジ-tert-ブチルヒドロキ
ノン 

207 

222 

1810 

B28 2,5-ジ-tert-アミルヒドロキ

ノン 

DAHQ 

79-74-3 

B28-1 

2,5-ジ-tert-アミル-p-ベン
ゾキノン 

177 

248 

1680 

B28-1 

2,5-ジ-tert-アミルヒドロキ
ノン 

221 

250 

1980 

B29 トリブチルチオ尿素 

− 

2422-88-0 

B29-1 

ジ-n-ブチルアミン 

86 

129 

960 

B29-2 

ブチルイソシアネート 

72 

115 

1000 

B30 チオジプロピオン酸ジラ

ウリル 

DLTDP 

123-28-4 

B30-1 

チオジプロピオン酸ジラ
ウリル 

329 

514 

3630 

B31 ブチルヒドロキシアニソ

ール 

BHA 

25013-16-5 B31-1 

3-tert-ブチル-4-ヒドロキ
シアニソール 

165 

180 

1500 

注a) 名称及び略語の表記方法は参考文献を参照する。 

b) 附属書Bの図中のピーク番号。 

K 6241:2012  

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き,本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。 

附属書B 

(参考) 

クロマトグラム及び質量スペクトル 

この規格が規定する老化防止剤のクロマトグラム及び質量スペクトルは,図B.1〜図B.31による。 

注記 図B.1〜図B.31を測定した条件をa)〜c) に参考として示す。 

a) 加熱脱着装置:PY-2020iD(フロンティア・ラボ社製) 

− 加熱脱着温度:350 ℃ 

b) GC/MS装置:Agilent 6890(アジレント社製)及びAgilent 5973(アジレント社製) 

− キャリヤーガス流量:1.0 mL/分 

− スプリット比:1/300 

− 注入口温度:320 ℃ 

− カラム槽温度プログラム:初期温度40 ℃から320 ℃まで20 ℃/分で昇温した後,320 ℃

で10分間保持する。 

− インターフェース温度:300 ℃ 

− イオン化法:電子イオン化(EI)法 

− イオン源温度:250 ℃ 

− 加速電圧:70 eV 

− 質量電荷比(m/z)走査範囲:29〜600 

c) カラム:Ultra ALLOY-5(フロンティア・ラボ社製) 

− 長さ:30 m 

− 内径:0.25 mm 

− 固定相液体:5 %ジフェニル-95 %ジメチルポリシロキサン 

− 膜厚:0.25 μm 

background image

10 

K 6241:2012  

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き,本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。 

10 

12 

14 

16 

18 

20 

22 

保持時間(分) 

a) 2,2,4-トリメチル-1,2-ジヒドロキノリンの重合物のクロマトグラム 

40 

80 

120 

160 

200 m/z  

100 

200 

300 

400 m/z 

b) ピークB1-1の質量スペクトル 

c) ピークB1-2の質量スペクトル 

100 

200 

300 

400 

500 

m/z 

d) ピークB1-3の質量スペクトル 

図B.1−2,2,4-トリメチル-1,2-ジヒドロキノリンの重合物 

B1-1 

B1-2 

B1-3 

174 

519

331

158

173

158

強度 

強度 

強度 

強度 

background image

11 

K 6241:2012  

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き,本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。 

10 

12 

14 

16 

18 

20 

22 

24 

保持時間(分) 

a) 6-エトキシ-1,2-ジヒドロ-2,2,4-トリメチルキノリンのクロマトグラム 

20 

40 

60 

80 

100 

120 

140 

160 

180 

200 

220 

240 m/z 

b) ピークB2-1の質量スペクトル 

図B.2−6-エトキシ-1,2-ジヒドロ-2,2,4-トリメチルキノリン 

202

217

B2-1 

強度 

強度 

background image

12 

K 6241:2012  

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き,本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。 

10 

12 

14 

16 

18 

20 

22 

24 

保持時間(分) 

a) アセトンとジフェニルアミンの縮合物のクロマトグラム 

50 

100 

150 

200 m/z 

40 

80 

120 

160 

200 

240 

m/z 

b) ピークB3-1の質量スペクトル 

c) ピークB3-2の質量スペクトル 

40 

80 

120 

160 

200 

240 

m/z 

100 

200 

300 m/z 

d) ピークB3-3の質量スペクトル 

e) ピークB3-4の質量スペクトル 

図B.3−アセトンとジフェニルアミンの縮合物 

B3-1 

B3-2 

B3-3 

B3-4 

169 

196

211 

194

209

236

251 

強度 

強度 

強度 

強度 

強度 

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き、本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。 

background image

13 

K 6241:2012  

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き,本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。 

10 

12 

14 

16 

18 

20 

22 

保持時間(分) 

a) ジフェニルアミン,アニリン,アセトンの反応物のクロマトグラム 

50 

100 

150 

m/z  

40 

80 

120 

160 

200 

m/z 

b) ピークB4-1の質量スペクトル 

c) ピークB4-2の質量スペクトル 

100 

200 

300 

400 m/z  

100 

200 

300 

400 

m/z 

d) ピークB4-3の質量スペクトル 

e) ピークB4-4の質量スペクトル 

図B.4−ジフェニルアミン,アニリン,アセトンの反応物 

B4-3 

B4-4 

B4-1 

B4-2 

169

194 

209 

331

348

363

378

強度 

強度 

強度 

強度 

強度 

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き、本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。 

background image

14 

K 6241:2012  

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き,本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。 

10 

12 

14 

16 

18 

20 

22 

保持時間(分) 

a) N-フェニル-α-ナフチルアミンのクロマトグラム 

20 

40 

60 

80 

100 

120 

140 

160 

180 

200 

220 

240 m/z 

b) ピークB5-1の質量スペクトル 

図B.5−N-フェニル-α-ナフチルアミン 

B5-1 

219

強度 

強度 

background image

15 

K 6241:2012  

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き,本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。 

10 

12 

14 

16 

18 

20 

22 

24 保持時間(分) 

a) アルキル化ジフェニルアミンのクロマトグラム 

20  40 

60 80 100 120 140 160 180 m/z 

40 

80 

120 

160 

200 

240 

280 

m/z 

b) ピークB6-1の質量スペクトル 

c) ピークB6-2の質量スペクトル 

100 

200 

300 

400 

m/z 

d) ピークB6-3の質量スペクトル 

図B.6−アルキル化ジフェニルアミン 

B6-1 

B6-2 

B6-3 

169

210

281

322

393

強度 

強度 

強度 

強度 

background image

16 

K 6241:2012  

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き,本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。 

10 

12 

14 

16 

18 

20 

22 

24 

保持時間(分) 

a) オクチル化ジフェニルアミンのクロマトグラム 

40 

80 

120 

160 

200 

240 

280 

320 

360 

400 m/z 

b) ピークB7-1の質量スペクトル 

図B.7−オクチル化ジフェニルアミン 

B7-1 

322

393

強度 

強度 

background image

17 

K 6241:2012  

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き,本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。 

10 

12 

14 

16 

18 

20 

22 

24 

保持時間(分) 

a) 4,4'-ビス(α,α-ジメチルベンジル)ジフェニルアミンのクロマトグラム 

20 

60 

100 

140 

180 

220 

260 

300 

340 

380 

420 m/z 

b) ピークB8-1の質量スペクトル 

図B.8−4,4'-ビス(α,α-ジメチルベンジル)ジフェニルアミン 

B8-1 

390

405

強度 

強度 

background image

18 

K 6241:2012  

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き,本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。 

10 

12 

14 

16 

18 

20 

22 

24 

保持時間(分) 

a) p-(p-トルエンスルホニルアミド)ジフェニルアミンのクロマトグラム 

40 

80 

120 

160 

200 

240 m/z 

40 

80 120 160 200 240 280 320 360 m/z 

b) ピークB9-1の質量スペクトル 

c) ピークB9-2の質量スペクトル 

図B.9−p-(p-トルエンスルホニルアミド)ジフェニルアミン 

B9-1 

B9-2 

184

183 

338 

強度 

強度 

強度 

background image

19 

K 6241:2012  

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き,本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。 

10 

12 

14 

16 

18 

20 

22 

24 

保持時間(分) 

a) N,N'-ジ-2-ナフチル-p-フェニレンジアミンのクロマトグラム 

40 

80 

120 

160 

200 

240 

280 

320 

360 

m/z 

b) ピークB10-1の質量スペクトル 

図B.10−N,N'-ジ-2-ナフチル-p-フェニレンジアミン 

B10-1 

360

強度 

強度 

background image

20 

K 6241:2012  

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き,本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。 

10 

12 

14 

16 

18 

20 

22 

24 

保持時間(分) 

a) N,N'-ジフェニル-p-フェニレンジアミンのクロマトグラム 

20 

60 

100 

140 

180 

220 

260 

m/z 

b) ピークB11-1の質量スペクトル 

図B.11−N,N'-ジフェニル-p-フェニレンジアミン 

B11-1 

260

強度 

強度 

background image

21 

K 6241:2012  

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き,本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。 

10 

12 

14 

16 

18 

20 

22 

24 

保持時間(分) 

a) N-イソプロピル-N'-フェニル-p-フェニレンジアミンのクロマトグラム 

20 

60 

100 

140 

180 

220 

m/z 

b) ピークB12-1の質量スペクトル 

図B.12−N-イソプロピル-N'-フェニル-p-フェニレンジアミン 

B12-1 

211 

226

強度 

強度 

background image

22 

K 6241:2012  

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き,本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。 

10 

12 

14 

16 

18 

20 

22 

24 

保持時間(分) 

a) N-1,3-ジメチルブチル-N'-フェニル-p-フェニレンジアミンのクロマトグラム 

40 

80 

120 

160 

200 

240 

280 

m/z 

b) ピークB13-1の質量スペクトル 

図B.13−N-1,3-ジメチルブチル-N'-フェニル-p-フェニレンジアミン 

B13-1 

211 

268

強度 

強度 

background image

23 

K 6241:2012  

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き,本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。 

10 

12 

14 

16 

18 

20 

22 

24 

保持時間(分) 

a) N-(1-メチルヘプチル)-N'-フェニル-p-フェニレンジアミンのクロマトグラム 

20 

60 

100 

140 

180 

220 

260 

300 m/z 

b) ピークB14-1の質量スペクトル 

図B.14−N-(1-メチルヘプチル)-N'-フェニル-p-フェニレンジアミン 

B14-1 

211 

296 

強度 

強度 

background image

24 

K 6241:2012  

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き,本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。 

10 

12 

14 

16 

18 

20 

22 

24 保持時間(分) 

a) ジアリール-p-フェニレンジアミン混合物のクロマトグラム 

20 

60 

100 

140 

180 

220 

260 m/z 

20 

60 

100 140  180 220 

260 300 m/z 

b) ピークB15-1の質量スペクトル 

c) ピークB15-2の質量スペクトル 

20 

60 

100 140 180 220 260 300 m/z  

d) ピークB15-3の質量スペクトル 

図B.15−ジアリール-p-フェニレンジアミン混合物 

B15-2 

B15-1 

B15-3 

260

288

288

強度 

強度 

強度 

強度 

background image

25 

K 6241:2012  

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き,本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。 

10 

12 

14 

16 

18 

20 

22 

24 保持時間(分) 

a) 2,6-ジ-tert-ブチル-4-メチルフェノールのクロマトグラム 

20 

40 

60 

80 

100 

120 

140 

160 

180 

200 

220 

m/z 

b) ピークB16-1の質量スペクトル 

図B.16−2,6-ジ-tert-ブチル-4-メチルフェノール 

B16-1 

205

220

強度 

強度 

background image

26 

K 6241:2012  

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き,本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。 

10 

12 

14 

16 

18 

20 

22 

24 

保持時間(分) 

a) 2,6-ジ-tert-ブチル-4-エチルフェノールのクロマトグラム 

20 

40 

60 

80 

100 

120 

140 

160 

180 

200 

220 

240 m/z 

b) ピークB17-1の質量スペクトル 

図B.17−2,6-ジ-tert-ブチル-4-エチルフェノール 

B17-1 

219

234

強度 

強度 

background image

27 

K 6241:2012  

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き,本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。 

10 

12 

14 

16 

18 

20 

22 

24 

保持時間(分) 

a) スチレン化フェノールのクロマトグラム 

40 

80 

120 

160 

200 m/z 

60 

120 

180 

240 

300 m/z 

b) ピークB18-1の質量スペクトル 

c) ピークB18-2の質量スペクトル 

100 

200 

300 

400 m/z 

d) ピークB18-3の質量スペクトル 

図B.18−スチレン化フェノール 

B18-1 

B18-3 

B18-2 

183

198

287

302

391

406

強度 

強度 

強度 

強度 

background image

28 

K 6241:2012  

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き,本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。 

10 

12 

14 

16 

18 

20 

22 

24 

保持時間(分) 

a) プロピオン酸n-オクタデシル-3-(4-ヒドロキシ-3',5'-ジ-tert-ブチルフェニル)のクロマトグラム 

50 

100 

150 

200 

250 

300 

350 

400 

450 

500 

550 m/z 

b) ピークB19-1の質量スペクトル 

図B.19−プロピオン酸n-オクタデシル-3-(4-ヒドロキシ-3',5'-ジ-tert-ブチルフェニル) 

B19-1 

530

515

強度 

強度 

background image

29 

K 6241:2012  

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き,本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。 

10 

12 

14 

16 

18 

20 

22 

24 

保持時間(分) 

a) アクリル酸2-tert-ブチル-6-(3-tert-ブチル-2-ヒドロキシ-5-メチルベンジル)-4-メチルフェニルのクロマトグラム 

40 

80 

120 

160 

200 

240 

280 

320 

360 

400 

m/z 

b) ピークB20-1の質量スペクトル 

図B.20−アクリル酸2-tert-ブチル-6-(3-tert-ブチル-2-ヒドロキシ-5-メチルベンジル)-4-メチルフェニル 

B20-1 

361

394

強度 

強度 

background image

30 

K 6241:2012  

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き,本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。 

10 

12 

14 

16 

18 

20 

22 

24 

保持時間(分) 

a) 2,2'-メチレンビス(4-エチル-6-tert-ブチルフェノール)のクロマトグラム 

20 

60 

100 

140 

180 

220 

260 

300 

340 

380 m/z 

b) ピークB21-1の質量スペクトル 

図B.21−2,2'-メチレンビス(4-エチル-6-tert-ブチルフェノール) 

B21-1 

191

368

強度 

強度 

background image

31 

K 6241:2012  

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き,本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。 

10 

12 

14 

16 

18 

20 

22 

24 

保持時間(分) 

a) 2,2'-メチレンビス(4-メチル-6-tert-ブチルフェノール)のクロマトグラム 

20 

60 

100 

140 

180 

220 

260 

300 

340 m/z 

b) ピークB22-1の質量スペクトル 

図B.22−2,2'-メチレンビス(4-メチル-6-tert-ブチルフェノール) 

B22-1 

177

340

強度 

強度 

background image

32 

K 6241:2012  

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き,本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。 

10 

12 

14 

16 

18 

20 

22 

24 

保持時間(分) 

a) 4,4'-ブチリデンビス(3-メチル-6-tert-ブチルフェノール)のクロマトグラム 

20 

60 

100 

140 

180 

220 

260 

300 

340 

380 m/z 

b) ピークB23-1の質量スペクトル 

図B.23−4,4'-ブチリデンビス(3-メチル-6-tert-ブチルフェノール) 

B23-1 

339

382

強度 

強度 

background image

33 

K 6241:2012  

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き,本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。 

10 

12 

14 

16 

18 

20 

22 

24 

保持時間(分) 

a) 4,4'-チオビス(3-メチル-6-tert-ブチルフェノール)のクロマトグラム 

40 

80 

120 

160 

200 

240 

280 

320 

360 

m/z 

b) ピークB24-1の質量スペクトル 

図B.24−4,4'-チオビス(3-メチル-6-tert-ブチルフェノール) 

B24-1 

358

343

強度 

強度 

background image

34 

K 6241:2012  

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き,本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。 

10 

12 

14 

16 

18 

20 

22 

24 

保持時間(分) 

a) p-クレゾールとジシクロペンタジエンのブチル化反応物のクロマトグラム 

50 

100 

150 

200 

250 

300 

350 

400 

450 

m/z 

b) ピークB25-1の質量スペクトル 

図B.25−p-クレゾールとジシクロペンタジエンのブチル化反応物 

460

445

B25-1 

強度 

強度 

background image

35 

K 6241:2012  

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き,本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。 

10 

12 

14 

16 

18 

20 

22 

24 

保持時間(分) 

a) 2,2'-メチレン-ビス[3-メチル-6-(1-メチルシクロヘキシル)フェノール]のクロマトグラム 

20 

60 

100 

140 

180 

220 

260 

300 

340 

380 

420 m/z 

b) ピークB26-1の質量スペクトル 

図B.26−2,2'-メチレン-ビス[3-メチル-6-(1-メチルシクロヘキシル)フェノール] 

217

420

B26-1 

強度 

強度 

background image

36 

K 6241:2012  

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き,本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。 

10 

12 

14 

16 

18 

20 

22 

24 

保持時間(分) 

a) 2,5-ジ-tert-ブチルヒドロキノンのクロマトグラム 

20 

60 

100 

140 

180 

220 

m/z 

20 

60 

100 

140 

180 

220 m/z 

b) ピークB27-1の質量スペクトル 

c) ピークB27-2の質量スペクトル 

図B.27−2,5-ジ-tert-ブチルヒドロキノン 

205

220

207

222

B27-2 

B27-1 

強度 

強度 

強度 

background image

37 

K 6241:2012  

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き,本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。 

10 

12 

14 

16 

18 

20 

22 

24 

保持時間(分) 

a) 2,5-ジ-tert-アミルヒドロキノンのクロマトグラム 

20 

60 

100 

140 

180 

220 

260 m/z 

20 

60 

100 

140 

180 

220 

m/z 

b) ピークB28-1の質量スペクトル 

c) ピークB28-2の質量スペクトル 

図B.28−2,5-ジ-tert-アミルヒドロキノン 

177

248

221 

250

B28-2 

B28-1 

強度 

強度 

強度 

background image

38 

K 6241:2012  

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き,本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。 

10 

12 

14 

16 

18 

20 

22 

24 

保持時間(分) 

a) トリブチルチオ尿素のクロマトグラム 

20 

40 

60 

80 

100 

120 

m/z 

20 

40 

60 

80 

100 

120 

m/z 

b) ピークB29-1の質量スペクトル 

c) ピークB29-2の質量スペクトル 

図B.29−トリブチルチオ尿素 

86

129

115 

72

B29-2 

B29-1 

強度 

強度 

強度 

background image

39 

K 6241:2012  

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き,本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。 

10 

12 

14 

16 

18 

20 

22 

24 

保持時間(分) 

a) チオジプロピオン酸ジラウリルのクロマトグラム 

100 

200 

300 

400 

500 

m/z 

b) ピークB30-1の質量スペクトル 

図B.30−チオジプロピオン酸ジラウリル 

329 

514 

B30-1 

強度 

強度 

background image

40 

K 6241:2012  

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き,本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。 

10 

11 

12 

13 

14 

15 

16 

17 

保持時間(分) 

a) ブチルヒドロキシアニソールのクロマトグラム 

50 

100 

150 

200 

250 

300 

350 

400 

450 

m/z 

b) ピークB31-1の質量スペクトル 

図B.31−ブチルヒドロキシアニソール 

165

180

B31-1 

強度 

強度 

41 

K 6241:2012  

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き,本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。 

附属書C 
(規定) 

GC保持指標の求め方 

C.1 一般事項 

JIS K 0214の用語番号323に規定するGC保持指標は,次の手順によって求める。 

GC保持指標は,同じ種類のカラム固定相液体を用いる限り,測定条件(カラム槽温度条件及びキャリ

ヤーガスの流量)を変えても大きく影響されないため,老化防止剤を解析する場合は,保持時間を用いる

よりも正確である。 

C.2 試薬 

GC保持指標の測定に用いる試薬及びキャリヤーガスは,次による。 

C.2.1 n-アルカン n-アルカンは,炭素数10〜42のn-アルカン(分析用)を用いる。 

C.2.2 シクロヘキサン シクロヘキサンは,JIS K 8464に規定するものを用いる。 

C.2.3 キャリヤーガス キャリヤーガスは,ヘリウムガスを用いる。 

C.3 装置 

C.3.1 GC/MS装置 

GC/MS装置は,4.2.2〜4.2.4による。 

C.4 手順 

GC保持指標を求める手順は,次による。 

C.4.1 炭素数10〜42のn-アルカンを,それぞれの濃度が0.05〜0.1容部(質量/体積g/L)になるようは

かりとり,一つの容器にまとめてシクロヘキサンを加える。 

C.4.2 1 μLをGC/MS装置に注入して測定を開始する。 

C.4.3 得られたクロマトグラムから,各n-アルカンを帰属する。それぞれのn-アルカンの炭素数に100

を乗じたGC保持指標を割り付ける。例えば,デカン(C10H22)のGC保持指標は,1 000(10×100),ト

リコサン(C23H48)のGC保持指標は,2 300(23×100)となる。 

C.4.4 目的とする老化防止剤の直前に溶出するn-アルカンのピークと老化防止剤の直後に溶出するn-ア

ルカンのピークとの保持時間差を求め,これをd1とする(図C.1)。 

C.4.5 目的とする老化防止剤のピークと老化防止剤の直前に溶出するn-アルカンのピークとの保持時間

差を求めd2とする(図C.2)。 

C.4.6 老化防止剤のGC保持指標(RI)は,次の式によって算出する。 

100

1

+

=

d

d

C

RI

n

ここに, 

Cn: 目的とする老化防止剤の直前に溶出するn-アルカンのピーク

のGC保持指標 

d1: 目的とする老化防止剤の直前に溶出するn-アルカンのピーク

と老化防止剤の直後に溶出するn-アルカンのピークとの保持
時間差 

background image

42 

K 6241:2012  

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き,本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。 

d2: 目的とする老化防止剤のピークと老化防止剤の直前に溶出す

るn-アルカンのピークとの保持時間差 

C.5 GC保持指標の計算例 

N-1.3-ジメチルブチル-N-フェニル-p-フェニレンジアミン(6PPD)を例に,C.4.6に示す式からGC保持

指標を求める方法を次に示す。 

6PPD(保持時間12.68分)は,トリコサン(C23H48,保持時間12.30分)とテトラコサン(C24H50,保持

時間12.72分)との間に溶出するため,図C.1からd1は,0.42(12.72-12.30),図C.1及び図C.2からd2は

0.38(12.68-12.30)となる。これにCn(トリコサンのGC保持指標:2 300)を加えて計算し,6PPDのGC

保持指標2 390を得る。 

図C.1−トリコサン及びテトラコサンのクロマトグラム 

図C.2−6PPDのクロマトグラム 

参考文献 JIS K 6220-3 ゴム用配合剤−試験方法−第3部:老化防止剤 

ISO 6472,Rubber compounding ingredients−Symbols and abbreviated terms 

6PPD 

10.0

10.5

11.0

11.5

12.0

12.5

13.0

13.5

14.0

14.5

12.68

保持時間(分) 

強度 

12.2

12.3

12.4

12.5

12.6

12.7

12.8

12.30 

12.72 

トリコサン 

テトラコサン 

保持時間(分) 

強度 

background image

43 

K 6241:2012  

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き,本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。 

附属書JA 

(参考) 

JISと対応国際規格との対比表 

JIS K 6241:2012 ゴム−ガスクロマトグラフィー質量分析法(GC/MS法)によ
る老化防止剤の同定 

ISO 10638:2010 Rubber−Identification of antidegradants by gas chromatography/mass 
spectrometry 

(I)JISの規定 

(II) 
国際 
規格 
番号 

(III)国際規格の規定 

(IV)JISと国際規格との技術的差異の箇
条ごとの評価及びその内容 

(V)JISと国際規格との技術的差異の理由
及び今後の対策 

箇条番号 
及び題名 

内容 

箇条 
番号 

内容 

箇条ごと 
の評価 

技術的差異の内容 

3 原理 

JISとほぼ同じ 

変更 

試料片から老化防止剤を回収
する方法をより詳しく説明し
た。 

技術的な差異はない。 

4 加熱脱着
GC/MS法 

− 

4.1.1 

トラップ冷媒 

削除 

トラップ冷媒を削除した。 

使用実態がないため削除した。 
ISO定期見直し時に提案する。 

4.2 装置及び器具 

− 

− 

追加 

装置の概略図を追加した。 

装置構成を分かりやすくした。 
ISO定期見直し時に提案する。 

4.2.1 加熱脱着装置 

4.2.1 

JISとほぼ同じ 

変更 

加熱可能な温度の上限を変更
した。 

附属書B測定条件と同じ温度に変更した。 
ISO定期見直し時に提案する。 

− 

4.2.2 

トラップ装置 

削除 

トラップ装置を削除した。 

使用実態がないため削除した。 
ISO定期見直し時に提案する。 

4.2.2 ガスクロマト
グラフ,4.2.3 カラ
ム,4.2.4 質量分析計 

4.2.3 

JISとほぼ同じ 

変更 

4.2.2,4.2.3,4.2.4に分割した。 項番号を分け,分かりやすくした。 

ISO定期見直し時に提案する。 

− 

4.2.3.1 

GC条件 

削除 

オーブン温度プログラムを削
除した。 

4.4.1に手順の項を追加し,そこに移した。 
ISO定期見直し時に提案する。 

4.2.5 質量分析計の
装置校正 

− 

− 

追加 

質量分析計の装置校正の項を
追加した。 

装置校正は正確な定性を行うために必要。 
ISO定期見直し時に提案する。 

4.3.2 原料ゴム 

4.3.2 

採取方法 

変更 

原料ゴムに限定した。 

未加硫配合ゴム及び加硫配合ゴムの採取
方法を4.3.3に移した。 
ISO定期見直し時に提案する。 

4.3.3 未加硫配合ゴ
ム及び加硫配合ゴム 

− 

− 

追加 

未加硫配合ゴム及び加硫配合
ゴムの採取方法を追加した。 

具体的に採取方法を記載した。 
ISO定期見直し時に提案する。 

4

3

K

 6

2

4

1

2

0

1

2

  

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き、本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。 

background image

44 

K 6241:2012  

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き,本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。 

(I)JISの規定 

(II) 
国際 
規格 
番号 

(III)国際規格の規定 

(IV)JISと国際規格との技術的差異の箇
条ごとの評価及びその内容 

(V)JISと国際規格との技術的差異の理由
及び今後の対策 

箇条番号 
及び題名 

内容 

箇条 
番号 

内容 

箇条ごと 
の評価 

技術的差異の内容 

4 加熱脱着
GC/MS法 
(続き) 

4.4.1 

− 

− 

追加 

手順に試験条件を追加した。 

試験条件の記載がないため。 
ISO定期見直し時に提案する。 

4.4.2 

4.4.1 

JISとほぼ同じ 

変更 

項番号を変更した。採取する
試料質量を変更した。 

試験実態に合わせた。 
ISO定期見直し時に提案する。 

4.4.3,4.4.4 

4.4.2 

JISとほぼ同じ 

変更 

項を分割した。 

項番号を分け,分かりやすくした。 
ISO定期見直し時に提案する。 

5 溶剤抽出
GC/MS法 

5.1.1 抽出溶剤 

5.1.1 

JISとほぼ同じ 

追加 

JISを引用した。 

技術的な差異はない。 

5.2.2 GC/MS装置 

5.2.2 

JISとほぼ同じ 

追加 

装置の概略図を追加した。 

装置構成を分かりやすくした。 
ISO定期見直し時に提案する。 

5.2.3 質量分析計の
装置校正 

− 

− 

追加 

質量分析計の装置校正の項を
追加した。 

装置校正は正確な定性を行うために必要。 
ISO定期見直し時に提案する。 

5.4.1 

− 

− 

追加 

手順に試験条件を追加した。 

試験条件の記載がないため。 
ISO定期見直し時に提案する。 

5.4.2 

5.4.1 

JISとほぼ同じ 

変更 

項番号を変更した。 

技術的な差異はない。 

5.4.3 

5.4.2 

JISとほぼ同じ 

変更 

項番号を変更した。 

技術的な差異はない。 

− 

5.4.2 

note 

削除 

noteを削除した。 

一般的事項であり,記載不要。 
ISO定期見直し時に提案する。 

5.4.4 

− 

− 

追加 

手順を追加した。 

より詳細に説明した。 
ISO定期見直し時に提案する。 

− 

GC保持指標の求め
方 

削除 

他の箇条の記載内容と重複す
るため,箇条6を削除した。 

技術的な差異はない。 

6 解析 

6.1 解析の手順及び
6.2 解析の注意点 

JISとほぼ同じ 

変更 

6.1(解析の手順)及び6.2(解
析の注意点)に分割した。 

細分箇条に分け,分かりやすくした。 

6.1 解析の手順 

− 

− 

追加 

解析の手順を記載した。 

手順を追加した。 
ISO定期見直し時に提案する。 

附属書A 
(規定) 

B21〜B24の略語 

B21〜B24
の略語 

JISとほぼ同じ 

変更 

略語を変更した。 

JIS K 6220-3記載の略語を採用した。 
技術的な差異はない。 

4

3

K

 6

2

4

1

2

0

1

2

  

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き、本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。 

background image

45 

K 6241:2012  

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き,本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。 

(I)JISの規定 

(II) 
国際 
規格 
番号 

(III)国際規格の規定 

(IV)JISと国際規格との技術的差異の箇
条ごとの評価及びその内容 

(V)JISと国際規格との技術的差異の理由
及び今後の対策 

箇条番号 
及び題名 

内容 

箇条 
番号 

内容 

箇条ごと 
の評価 

技術的差異の内容 

附属書B 
(参考) 

− 

b) 

トラップ装置 

削除 

トラップ装置を削除した。 

使用実態がないため削除した。 
ISO定期見直し時に提案する。 

附属書C 
(規定) 

C.2.2 シクロヘキサ
ン 

C.2.2 

JISとほぼ同じ 

追加 

引用JISを記載した。 

技術的な差異はない。 

C.4.1 

C.4.1 

JISとほぼ同じ 

追加 

n-アルカンの採取方法を分か

りやすくした。 

技術的な差異はない。 

JISと国際規格との対応の程度の全体評価:ISO 10638:2010,MOD 

注記1 箇条ごとの評価欄の用語の意味は,次による。 
 

− 削除 ················ 国際規格の規定項目又は規定内容を削除している。 

− 追加 ················ 国際規格にない規定項目又は規定内容を追加している。 

− 変更 ················ 国際規格の規定内容を変更している。 

注記2 JISと国際規格との対応の程度の全体評価欄の記号の意味は,次による。 
 

− MOD ··············· 国際規格を修正している。 

4

3

K

 6

2

4

1

2

0

1

2

  

2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き、本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。